服务承诺
(1)公司拥有一批设计人员，给您提供洁净厂房、无菌实验室、洁净实验室设计。
(3)公司拥有一支高素质工程设计。安装和技术监督队伍，每项工程从设计到施工都紧密配合，严格把握工程的质量关。
(2)我公司制定实施了一套完整的售后服务制度，能为客户提供优质完美的售后服务。公司拥有一整套完备的售后服务队伍，在工程交付后，我公司定期与客户联系，了解产品质量情况，随时可以解决客户提出的问题及净化工程的保养及维护。
近年来，先后承接了多个各级重点项目，如中国科学院广州地球化学研究所、华大基因研究院、北大深圳研究院、南方科技大学、华南农业大学、中国科学院深圳研究院、东莞华润涂料有限公司、可口可乐、EPSON实验室、BYD、北京台湾旺旺集团、中国海洋石油、中国兵工集团、华中电力、山西太原钢铁、农业部深圳农产品检测中心、军医大学、北大深圳医院、香港大学深圳医院、佛山市人民医院、肇庆疾病预防控制中心CDC、阳江疾病预防控制中心、省出入境检验检疫局、省公安系统、人民检察院……
公司的成绩已属于过去，我们并不满足于这些骄人的业绩，我们将继续秉承“质量是企业的生命”，以“真诚服务于每一个客户”为宗旨，致力于扎扎实实做好每一个工程，努力以合理的价格，优良的施工质量来回报各客户对我司的信任。
洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产良好湿度范围为35—45%。
气压规定
对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则：
1．洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。
2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。
压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。
洁净室中的气流速度规定
这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。
对于乱流洁净室 由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，不过对室内气流速度也有如下要求；
(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度更大。
(2)吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s。
对于平行流洁净室《习惯上称层流洁净室），由于主要靠气流的“活塞打挤压作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指标。过去都参考美国20gB标准，采用0.45m/s．但人们也都了解到这样大速度所需要的通风量是极大的，为了节能，也都在探求降低风速的可行性。
在我国，《空气洁净技术措施》和(洁净厂房设计规范）都是这样规定的
垂直平行流（层流）洁净室≥0.25m/s
水平平行流（层流）洁净室≥0.35 m/s
洁净室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间。洁净室主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。
实验室洁净系统中的洁净室对门窗的密闭性有要求，保证使用的同时，不会对室内的洁净度有影响。
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